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無塵室中的溫濕度控制要求

    無塵室是溫濕度主要是根據(jù)產(chǎn)品需求的生產(chǎn)工藝來確定,而且在滿足產(chǎn)品工藝要求的同時(shí)還要考慮到工作人員的舒適度。隨著無塵室空氣潔凈等級(jí)的提升,各類工藝對(duì)于溫濕度的要求也越來越嚴(yán)格。
    總得來說,產(chǎn)品的加工精度越高,對(duì)于溫濕度波動(dòng)的要求也就越高,要求溫濕度波動(dòng)的范圍也就越小。例如在一些大規(guī)模集成電路的光刻曝光工藝中,直接只有一百微米的材料,如果環(huán)境溫度與要求直接相差了一度,就會(huì)造成材料零點(diǎn)幾微米的偏差,在這種高精度要求的無塵室中就是很嚴(yán)重的生產(chǎn)事故。所以,這種工藝甚至是需求溫差保持在正負(fù)零點(diǎn)五攝氏度之間的。
    另外,一些高精度的產(chǎn)品對(duì)于濕度的要求也很嚴(yán)格。在一些電子元件的生產(chǎn)中,空氣的潮濕會(huì)直接影響到芯片的質(zhì)量。而在大部分的硅類產(chǎn)品無塵室濕度的范圍被嚴(yán)格規(guī)定在了30-45%之間。

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